0# 순수 니켈 분말

순수 니켈 분말 는 높은 내식성, 열 전도성, 촉매 활성 등 고유한 특성으로 인해 적층 제조, 코팅, 용접 또는 브레이징, 촉매 및 배터리와 같은 다양한 산업 분야에 사용될 수 있습니다.

순수 Ni 분말 N0000-G 시리즈 는 가스 분무 공정을 통해 생산됩니다. 불순물을 최소화한 고순도(99.8% 및 99.9% 타입)입니다. 입자 크기는 고객의 사양에 따라 맞춤화할 수 있습니다. 일반적으로 당사의 일반적인 입자 크기는 PSD 0-25um, 15-45um, 15-53um, 45-105um, 53-150um 등 구형이며 나노미터 단위의 균일한 범위입니다.

일반적인 화학 성분은 아래 표에 나와 있습니다:

제조 프로세스

가스 분무

가스 분무에 의한 순수 Ni 분말의 입자 크기 분포(PSD) 는 0~200um, 일반 범위 0-25um, 15-45um, 15-53um, 20-65um, 53-106um, 53-150um 등 다양한 범위로 맞춤 제작할 수 있습니다. 고객 사양에 따라 다른 입자 크기 분포도 제공할 수 있습니다.

카보닐 방법

카보닐 니켈 분말 은 카르보닐 공정을 통해 생산되는 고순도 니켈 분말 형태입니다. 니켈 광석이 고온에서 일산화탄소와 반응하여 니켈 카르보닐 가스를 형성한 후 200~300℃에서 다시 순수한 니켈로 분해되어 입자 크기와 독특한 형태학적 특성을 제어할 수 있습니다.

기체 분무 Ni 분말의 SEM 사진: