0# 純ニッケル粉

純ニッケル粉 は、高耐食性、熱伝導性、触媒活性などのユニークな特性により、様々な産業用途に使用することができる。例えば、積層造形、コーティング、溶接やろう付け、触媒、バッテリーなどである。

純Ni粉末 Truer N0000-Gシリーズ はガスアトマイズ法により製造されます。高純度（99.8%、99.9%）で不純物が少ない。粒径はお客様のご指定によりカスタマイズ可能です。通常、PSD 0-25um、15-45um、15-53um、45-105um、53-150umの粒径があり、球状で、ナノメートルの粒径も可能です。

その代表的な化学組成を下表に示す：

製造工程

ガス噴霧

ガスアトマイズによる純Ni粉末の粒度分布(PSD) 一般的な0-25um、15-45um、15-53um、20-65um、53-106um、53-150umを含む、0-200umからカスタマイズ可能な広い範囲でご利用いただけます。その他の粒度分布もお客様のご指定に応じます。

カルボニル法

カルボニルニッケル粉 は、カルボニル法によって製造される高純度のニッケル粉末です。ニッケル鉱石と一酸化カボンを高温で反応させ、ニッケルカルボニルガスを生成し、200～300℃付近で分解して純粋なニッケルに戻るため、粒径が制御され、ユニークな形態学的特性が得られる。

ガスアトマイズしたNi粉末のSEM写真：